光学元件清洗过程中同步辐射活化氧的研究(英文)

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在同步辐射应用中,光学元件被污染是一个常见问题,而光学元件的污染会造成光通量的极大损失。为了有效地清洗光学元件,研究了清洗过程中的光化学反应,进行了氧气在同步辐射光作用下分解的实验。通过对实验中产生的气体成份分析,进行光化学反应研究。首先,测量通氧气时的气体成份;然后,测量通氧气和同步辐射光照时的气体成份。通过两者比较,分析氧气分解的情况。实验结果表明,氧分子在同步辐射光作用下发生分解,产生质量数为16的氧原子、氧离子和质量数为48的臭氧,它们的成份分别占1 %和0 .005 %~0 .01 %。 In synchrotron applications, contamination of optical components is a common problem, and contamination of optical components can result in significant loss of luminous flux. In order to clean the optical components effectively, the photochemical reactions in the cleaning process were studied and the oxygen was decomposed under the action of synchrotron radiation. Through the gas composition analysis of the experiment, photochemical reaction studies. First, the composition of the gas at the time of measuring oxygen is measured; then, the composition of the gas at the time of passing the oxygen and synchrotron radiation is measured. By comparing the two, analyze the situation of oxygen decomposition. The experimental results show that the oxygen molecules decompose under the action of synchrotron radiation to produce oxygen atoms with mass number of 16, oxygen ions and ozone with mass number of 48 and their components account for 1% and 0 .005% -0.01 %.
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