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固/液界面上高分子的行为直接影响着界面的物理和化学性质。对于高分子在界面的动态行为，由于缺乏有效的手段，检测一直十分困难。最近，一种频率．耗散联用型石英晶体微天平（QCM-D）问世，它能够同时检测固，液界面上有关高分子质量和结构的变化，因而可应用于界面高分子研究的多个方面。本文介绍石英晶体微天平的基本原理，并综述作者实验室最近几年利用QCM-D开展的若干工作，包括固，液界面上高分子链的构象变化．固，液界面上高分子的吸附，高分子降解动力学和聚电解质的“层层组装”等方面。