【摘 要】
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利用射频反应磁控溅射法在玻璃基片上制备Al薄膜,并在Al膜的表面镀上一层AZO薄膜,通过在Al膜表面镀上一层薄的AZO薄膜以提高其稳定性。并研究AZO/Al/glass双层膜的光电性能,
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利用射频反应磁控溅射法在玻璃基片上制备Al薄膜,并在Al膜的表面镀上一层AZO薄膜,通过在Al膜表面镀上一层薄的AZO薄膜以提高其稳定性。并研究AZO/Al/glass双层膜的光电性能,以及Al薄膜层厚度对薄膜光电性能的影响。实验结果表明,当铝膜厚度为7 nm时,AZO/Al/glass双层膜品质因子最佳,为26.68×10-6Ω-1,此时方块电阻最低,为500Ω/sq,可见光区的平均透过率最高,为64.95%。
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