砷化镓集成电路的现状报告

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<正> 一、引言在相同尺寸下,砷化镓集成电路与硅集成电路相比较,前者可获得较高的速度,或在相同速度下获得较低的功耗。此外,砷化镓在增强抗辐射以及在较高温度下工作方面比起硅来亦有潜在的优势。砷化镓集成电路工业已经从1974年制造第一个单门开始发展至今,可以制作如全功能4k静态RAM和6k门阵列这样的复杂电路。
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