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本研究完成了在具有立方织构的Ｎｉ基带上用外延生长法制和协ＮｉＯ缓冲层的工作。用此方法的ＮｉＯ膜具有很强的立方织构，其（１１１）的Х扫描峰的最大半高宽（ＦＷＨＭ）值达到１１。这种ＮｉＯ膜的形成为进上步溅射沉积具有双轴取向的ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７膜奠定了良好的基础。
钇钡铜氧（YBa2Cu3O7）涂层超导用Ni基片上立方织构NiO缓冲层的制备
【摘 要】
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本研究完成了在具有立方织构的Ｎｉ基带上用外延生长法制和协ＮｉＯ缓冲层的工作。用此方法的ＮｉＯ膜具有很强的立方织构，其（１１１）的Х扫描峰的最大半高宽（ＦＷＨＭ）值达到１１。这种ＮｉＯ膜的形成为进上步溅射沉积具有
【机 构】
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首钢总公司冶金研究院
【出 处】
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金属功能材料
【发表日期】
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2000年3期
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