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随着我国半导体行业的快速发展,碳化硅电子行业对纯水的使用要求越来越高。采用UF超滤系统+两级RO反渗透系统+EDI电除盐系统+离子交换系统+终端超滤系统的工艺制备生产所需纯水。其中,UF系统除去水中主要的大分子有机和无机悬浮物;RO系统进行脱盐处理;EDI装置进一步深度处理溶解离子;抛光树脂及终端过滤系统深度处理小分子有机物和细菌,最终得到出水电阻率≥17 MΩ.cm的纯水。该套工艺为碳化硅行业纯水生产技术提供参考。