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1.74μm压应变InGaAs/InGaAsP量子阱分布反馈激光器
1.74μm压应变InGaAs/InGaAsP量子阱分布反馈激光器
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shigang_fly1
【摘 要】
:
制备了1.74μm脊波导结构压应变InGaAs/InGaAsP量子阱分布反馈激光器.采用低压金属有机化合物气相沉积法生长器件材料,应用应变缓冲层防止In的分凝.未镀膜的腔长为300μm的器件阈
【作 者】
:
潘教青
王圩
朱洪亮
赵谦
王宝军
周帆
王鲁峰
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所光电子研究发展中心
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2005年9期
【关键词】
:
分布反馈激光器
压应变
量子阱
DFB laser
compressive strain
quantum well
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目(批准号:60176023)
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制备了1.74μm脊波导结构压应变InGaAs/InGaAsP量子阱分布反馈激光器.采用低压金属有机化合物气相沉积法生长器件材料,应用应变缓冲层防止In的分凝.未镀膜的腔长为300μm的器件阈值电流为11.5mA,100mA时最大输出功率为14mW,边模抑制比为33.5dB.
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