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在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,其在360～960nm波长范围内的平均透光率为76.35%,方块电阻为6.3kΩ/□。
H_2气氛退火处理温度对磁控溅射ZnO薄膜光电性能的影响
【摘 要】
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在室温下,采用直流磁控溅射法,以载玻片作为衬底,淀积出ZnO薄膜。在常压H2气氛中,以不同温度对样品进行退火处理。结果表明,在退火温度为500℃时,样品具有最佳综合光电性能,
【机 构】
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江苏大学机械工程学院,江苏大学材料科学与工程学院,江苏大学江苏省光子制造科学技术中心重点实验室
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2013年15期
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