掺钕晶体双频微片激光器的频差温度特性研究

来源 :光子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：gaolch008

【摘要】

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对不同参数的掺钕晶体双频微片激光器(DFML)进行频差温度特性研究.探索了在不同腔长、不同种类掺钕介质的DFML中,晶体温控温度对双频信号频差的影响.结果表明,双频信号频差与

【作者】

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邹宇玲胡淼李鹏欧军周雪芳杨国伟卢旸毕美华

【机构】

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杭州电子科技大学通信工程学院,国民核生化灾害防护国家重点实验室,防化研究院

【出处】

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光子学报

【发表日期】

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2019年6期

【关键词】

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双频微片激光器(DFML) 频差调谐温度控制光学谐振腔掺钕激光晶体 Dual-Frequency Microchip Laser (DFML)Freque

【基金项目】

：

国家自然科学基金(No.61705055),国民核生化灾害防护国家重点实验室开放基金(No.SKLNBC2015G03).

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对不同参数的掺钕晶体双频微片激光器(DFML)进行频差温度特性研究.探索了在不同腔长、不同种类掺钕介质的DFML中,晶体温控温度对双频信号频差的影响.结果表明,双频信号频差与谐振腔光学腔长成反比,与晶体温控温度呈正相关;其中0.5mm腔长DFML(Nd∶YVO4)的双频信号频差随晶体温控温度的变化率为0.34GHz/℃,0.8mm腔长DFML(Nd∶YVO4)的双频信号频差随晶体温控温度的变化率为0.12GHz/℃,1mm腔长DFML(Nd∶YVO4)的双频信号频差随晶体温控温度的变化率为0.044GHz

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