高电容比射频/微波MEMS膜开关的理论分析和数值模拟

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建立了一个MEMS膜开关电容比理论模型.由于这个模型比较全面地考虑了开关阈值电压、维持电压、偏置电压和介质膜内的电场强度等因素对电容比的影响,因而能较为正确地反映开关的电容特性.用数值方法计算了影响开关电容比的因素,并对计算结果进行了分析和讨论.提出了使用脉冲电压作为偏置电压可以使介质膜gj的厚度减少到50nm,从而使开关的电容比增加到3800.最后,讨论了实现高电容比MEMS 膜开关的可行性.
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