【摘 要】
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使用物理气相传输法（PVT）制备出直径209 mm的4H-SiC单晶，并通过多线切割、研磨和抛光等一系列加工工艺制备出标准8英寸SiC单晶衬底。使用拉曼光谱仪、高分辨X-射线衍射仪、光学显微镜、电阻仪、偏光应力仪、面型检测仪、位错检测仪等设备，对8英寸衬底的晶型、结晶质量、微管、电阻率、应力、面型、位错等进行了详细表征。拉曼光谱表明8英寸SiC衬底100%比例面积为单一4H晶型；衬底（0004）面
【基金项目】
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国家重点研发计划（2021YFB3601100）；
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使用物理气相传输法（PVT）制备出直径209 mm的4H-SiC单晶，并通过多线切割、研磨和抛光等一系列加工工艺制备出标准8英寸SiC单晶衬底。使用拉曼光谱仪、高分辨X-射线衍射仪、光学显微镜、电阻仪、偏光应力仪、面型检测仪、位错检测仪等设备，对8英寸衬底的晶型、结晶质量、微管、电阻率、应力、面型、位错等进行了详细表征。拉曼光谱表明8英寸SiC衬底100%比例面积为单一4H晶型；衬底（0004）面的5点X-射线摇摆曲线半峰宽分布在10.44”～11.52”之间；平均微管密度为0.04个/cm2；平均电阻率为0.0203 Ω·cm。使用偏光应力仪对8英寸SiC衬底内部应力进行检测表明整片应力分布均匀，且未发现应力集中的区域;翘曲度（Warp） 为17.318 μm，弯曲度（Bow）为-3.773 μm。全自动位错密度检测仪对高温熔融KOH刻蚀后的8英寸衬底进行全片扫描，平均总位错密度为3293个/cm2，其中螺型位错（TSD）密度为81个/cm2，刃型位错（TED）密度为3074个/cm2，基平面位错（BPD）密度为138个/cm2。结果表明8英寸导电型4H-SiC衬底质量优良，同比行业标准达到行业先进水平。
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