高纯钨溅射靶材制取工艺研究

来源 :第九届全国难熔金属学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jievons
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微电子技术、光电技术对钨的纯度要求越来越高,熔炼钨纯度离但尺寸规格小且加工难度大。仅对采用粉未冶盖法制取高纯钨材工艺试验过程中,重新氨溶,中和结晶的除杂效应进行了一些探讨,对经高真空高温处理后的钨方坯加工性能进行了加工试验,证明采用重新氨溶、中和结晶、超高真空高温脱气工艺可有效地去除杂质。高纯钨材质优良、性能稳定、放气量小。
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