衬底温度对HFCVD制备金刚石薄膜的影响

来源 :微纳电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jack_123456

【摘要】

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【作者】

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路一泽檀柏梅高宝红刘宜霖胡新星

【出处】

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微纳电子技术

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

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衬底温度热丝化学气相沉积(HFCVD) 掺硼金刚石电阻率表面形貌

【基金项目】

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国家科技重大专项资助项目(2009ZX02308-003);国家自然科学基金资助项目(NSFC61504037);博士后科研项目择优资助项目(B2015003010)

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