旋涂法制备氧化锆介质层及其在薄膜晶体管中的应用

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:upup2004
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采用旋涂法制备了氧化锆介质层薄膜,重点讨论了退火温度以及旋涂转速对薄膜性能的影响及作用机制。研究发现高温后退火一方面使得氧化锆水合物脱水形成氧化锆,另一方面促使氧化锆薄膜结晶。此外,转速较高时,其变化对薄膜厚度及粗糙度无显著影响。当转速为5000r/min、退火温度为300℃时,制备的绝缘层厚度具有良好的厚度均匀性,粗糙度为0.7nm,漏电流为3.13×10-5A/cm2(电场强度1MV/cm)。最终,利用ZrO2薄膜作为栅极绝缘层,在玻璃基板上制备了铟镓锌氧化物-薄膜晶体管(IGZO-TFT)
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