高温工艺对TiSi_2/n~+-Poly-Si复合栅MOS电容特性及TiSi_2膜性质的影响

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong523
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本文研究了高温退火过程对TiSi_2/n~+-POly-Si 复合栅MOS电容电学性能及TiSi_2膜特性的影响.结果表明,当炉退火温度高于900℃时,TiSi_2层厚度变的不均匀,甚至在某些地方不连续;TiSi_2/n~+Poly-Si 界面十分不平整;多晶硅中杂质外扩散十分严重; MOS电容的性能和电学参数变差.对于RTA过程,高温退火对MOS电容的电学特性没有产生不利影响,TiSi_2膜仍很均匀.所以,在 TiSi_2/Poly-Si复合栅结构工艺中,高温退火过程最好采用 RTA技术. In this paper, the effect of high temperature annealing process on the electrical properties of TiSi_2 / n ~ + -POly-Si composite gate MOS capacitors and the characteristics of TiSi_2 films were investigated.The results show that the thickness of TiSi_2 layer becomes non-uniform when the annealing temperature is higher than 900 ℃, Even in some places discontinuous; the interface of TiSi_2 / n ~ + Poly-Si is very uneven; the impurity diffusion in polycrystalline silicon is very serious; the performance and electrical parameters of MOS capacitor deteriorate. For RTA process, TiSi2 film is still uniform, so in the TiSi2 / Poly-Si composite gate structure process, the high temperature annealing process is best to use RTA technology.
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