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提出一种能同时重建多个二维良导体目标外形轮廓的新方法－－连续编码遗传算法，将目标的横截面轮廓近似表达为三角级数形式，由边界条件得到一积分方程组，在此基础上将成像问题转化为约束优化问题，级数的各项系数为待优化量，积分方程组为约束条件，目标函数定义为实际测量的散射场与反演过程中得到的散射场之间的相对误差函数，采用连续码遗传算法求解，优化过程通过选择，交叉、变异等遗传操作的迭代而实现，待优化目标函数进行