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在纳米光刻中，采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制，发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象，最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大幅度放大，条纹移动可表征两标记的相对位移，具有很高探测灵敏度，可用于纳米级高精度对准。从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中，两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律。并设计了一组对准标记，能继续将灵敏度提高一倍。通过仿真分析，从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对