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该发明属于微电子工艺领域和仪器仪表技术领域，特别涉及一种基于金属电极的纳米线阵列的生长方法。该发明方法步骤包括：步骤1，在多孔模板两侧分别制作电极A和电极B，其中电极B需确保不会堵塞多孔模板的孔洞；所述电极A为溅射得到的金属电极，所述电极B为溅射得到的金属电极；步骤2，电极A和电极B分别与电源相连，并浸入装有电解液的溶液槽中，直至生长出均匀的纳米线阵列。相比于采用化学机械抛光来保证纳米线长度的一致性的方法，该发明方法对于纳米线的长度控制更加简单易行，不再需要抛光工艺介入。同时，该发明所提供的工艺途径避免了