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期刊论文
磁场对脉冲离子源镀膜均匀性的影响
磁场对脉冲离子源镀膜均匀性的影响
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wap1012min2
【摘 要】
:
介绍了在各种磁场作用下利用脉冲真空电弧离子源镀膜的实验现象和实验结果,在此基础上,主要分析了磁场对脉冲真空电弧离子源镀膜均匀性的影响.
【作 者】
:
蔡长龙
王季梅
严一心
杭凌侠
刘卫国
【机 构】
:
西安交通大学,西安工业学院
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
脉冲电弧
离子源
磁场
薄膜沉积
镀膜
Pulsed arc
Ion source
Magnet
Uniformity
Film deposition
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介绍了在各种磁场作用下利用脉冲真空电弧离子源镀膜的实验现象和实验结果,在此基础上,主要分析了磁场对脉冲真空电弧离子源镀膜均匀性的影响.
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