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为了制备可以在磁场中悬浮的ICF靶丸材料，采用化学镀法对PS微球包覆Ni—P合金磁性镀层，并用正交实验确定了最佳工艺条件。采用XRD、SEM、DSC、VSM分析了镀层结构、形貌以及磁性。结果表明，Ni—P镀层在PS微球表面沉积均匀，表面光滑；微球的饱和磁化强度为2．130A／m，所具有的磁性可使其在磁场中悬浮；化学镀Ni—P合金层最佳工艺条件为：ρ（NiSO4·6H2O）=40g／L，ρ（NaH2PO2）=25g／L，ρ（柠檬酸钠）=50g／L，ρH=10，温度为40℃。