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在室温下，采用射频磁控溅射技术以较大的功率密度（7W／cm^2）沉积了一系列掺铝氧化锌（AZO）透明导电薄膜，探索了溅射压强对沉积速率及薄膜性能的影响。结果表明，当工作压强为2．OPa时，高速（67nm／min）沉积得到的薄膜的电阻率为2．63×10^-3Ω·cm，可见光平均透过率为83％，并且在薄膜表面有一定的织构。