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涂层超导体缓冲层的制备
涂层超导体缓冲层的制备
来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lihaohua008
【摘 要】
:
综述了涂层超导体缓冲层的作用、可利用的材料及制备方法。着重介绍了几种制备缓冲层的真空及非真空方法,即磁控溅射法、脉冲激光沉积(PLD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、电沉积等。展
【作 者】
:
邹金桥
祝勇仁
卢建树
【机 构】
:
浙江机电职业技术学院现代系,浙江工业大学材料研究所
【出 处】
:
表面技术
【发表日期】
:
2007年5期
【关键词】
:
涂层超导体
缓冲层
真空沉积
非真空沉积
Coated superconductor Buffer layer Vacuum deposition Non-
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综述了涂层超导体缓冲层的作用、可利用的材料及制备方法。着重介绍了几种制备缓冲层的真空及非真空方法,即磁控溅射法、脉冲激光沉积(PLD)、溶胶-凝胶法(sol-gel)、电沉积等。展望了对下一步涂层超导体缓冲层的制备。
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