【摘 要】
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为了对ＧａＮ薄膜低温生长提供更多的活性氮，在一个腔耦合电子回旋共振（ＥＣＲ）半导体加工装置上，用朗谬探针和二次微分理论，研究了氮ＥＣＲ等离子体的实际电子能量分布。发现它们都是非麦克斯韦分布
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为了对ＧａＮ薄膜低温生长提供更多的活性氮，在一个腔耦合电子回旋共振（ＥＣＲ）半导体加工装置上，用朗谬探针和二次微分理论，研究了氮ＥＣＲ等离子体的实际电子能量分布。发现它们都是非麦克斯韦分布，含有高能电子，而且随着放电气压的下降和微波功率的增加，高能电子成分增加。
In order to provide more active nitrogen for the low temperature growth of GaN films, the actual electron energy distribution of nitrogen ECR plasma was studied by Langmuir probe and quadratic differential theory in a cavity-coupled electron cyclotron resonance (ECR) semiconductor device. . They were all found to be non-Maxwellian distributions containing high energy electrons, and the high-energy electron content increased as the discharge pressure decreased and microwave power increased.
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