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采用一种测定氧化膜生长应力的双面氧化弯曲方法,测量了FE-23CR-5AL(FE-22.6CR-.42AL-0.21TI,WT%)合金在1000^0C空气中氧化形成的AL2O3膜的平均生长应力,研究了氧化膜应力释放机制,AL2O3膜的平均生长应力随膜厚增大而减小,其大小从-1GPA数量级变化到-100MPA数量级.基体全金和AL2O3膜在1000^0C时均发生蠕变,合金氧化一定时间后于真空保温退火