【摘 要】
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公开号 ＣＮ１２０６７５０Ａ 申请人 西南交通大学 地址 ６１００３１四川省成都市 本发明通过采用特殊的等离子体源离子注入技术，即利用钛作为蒸发源、溅射源、金属等离子体源或基体材料，以氧为气
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公开号 ＣＮ１２０６７５０Ａ 申请人 西南交通大学 地址 ６１００３１四川省成都市 本发明通过采用特殊的等离子体源离子注入技术，即利用钛作为蒸发源、溅射源、金属等离子体源或基体材料，以氧为气氛环境，分别通过特定的制备过程，在人工器官表面的ＴｉＮ涂层
Publication No. CN1206750A Applicant Southwest Jiaotong University Address 610031 Chengdu, Sichuan Province The present invention uses a special plasma source ion implantation technology, that is, using titanium as an evaporation source, a sputtering source, a metal plasma source or a base material, Environment, respectively, through a specific preparation process, TiN coating on the surface of artificial organs
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