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分析了CMP后电子元件表面清洗存在的问题,综述了CMP后清洗技术的发展现状,详细阐述了兆声波清洗技术的原理、工艺流程、工艺参数及特点,介绍了兆声波清洗在CMP超精抛光加工技术中的应用与前景。
CMP超精密抛光元件兆声波清洗工艺和应用
【摘 要】
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分析了CMP后电子元件表面清洗存在的问题,综述了CMP后清洗技术的发展现状,详细阐述了兆声波清洗技术的原理、工艺流程、工艺参数及特点,介绍了兆声波清洗在CMP超精抛光加工技
【机 构】
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河南省化工研究所有限责任公司
【出 处】
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清洗世界
【发表日期】
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2017年12期
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