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本文对半导体行业常用的湿法化学腐蚀工艺进行了概述.并探讨了湿法化学腐蚀工艺的两大类型:酸性化学腐蚀工艺和碱性化学腐蚀工艺,简要介绍了两种不同化学腐蚀工艺的差异.文章重点对酸性化学腐蚀进行了介绍,分析了酸性化学腐蚀的微观过程,并且对实际生产中需要控制的主要因素进行了介绍.
硅片的湿法化学腐蚀工艺
【摘 要】
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本文对半导体行业常用的湿法化学腐蚀工艺进行了概述.并探讨了湿法化学腐蚀工艺的两大类型:酸性化学腐蚀工艺和碱性化学腐蚀工艺,简要介绍了两种不同化学腐蚀工艺的差异.文章
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津 300220
【出 处】
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消费导刊
【发表日期】
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2018年27期
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