高介电常数复合氧化膜低压化成箔制备及性能表征

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本文使用阴极电沉积法制备高介电常数TiO2-Al2O3复合低压化成氧化膜,利用LCR数字电桥、发射光谱、 SEM等测试手段对TiO2-Al2O3复合低压化成氧化膜的静电容量、 Ti含量及微观形态进行了分析和表征。结果表明:钛在TiO2-Al2O3复合低压化成氧化膜的表面沉积含量为3420mg/m-2。与普通阳极化成箔氧化膜相比,复合氧化膜的静电容量提升了30%以上。阴极电沉积法制备TiO2-Al2O3复合低压化成氧化膜未对化成箔氧化膜形态产生影响。
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