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目的 观察低浓度二氧化氯气体对黑曲霉的生长是否具有抑制作用.方法 采用培养基平皿为染菌载体,观察低浓度(0.28 ±0.02) mg/m3二氧化氯气体对黑曲霉生长的影响.结果 试验组空气中二氧化氯浓度保持在(0.28±0.02) mg/m3,作用48 h后对照组有霉菌菌落生长,试验组未长出菌落,仅有微量菌丝生长;作用72和96 h,对照组和试验组均有菌落生长,对照组菌落直径及生长面积是试验组的2倍以上;作用48、72和96 h,对照组霉菌生长等级均大于试验组霉菌生长等级.结论 在试验观察期内,低浓度二氧化氯气体对黑曲霉的生长有抑制作用.