【摘 要】
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通过两个理论模型：和一个实例介绍电法(MT、EMAP)资料处理解释中常用到的一种成像方法——残差界面成像技术，它实质上是要提取界面信息，突出电性异常在剖面上的标志，而不管电性异
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通过两个理论模型：和一个实例介绍电法(MT、EMAP)资料处理解释中常用到的一种成像方法——残差界面成像技术，它实质上是要提取界面信息，突出电性异常在剖面上的标志，而不管电性异常的绝对电阻率值的多少。其处理方法是对每个单独测点从实测场中减去宏观大地所形成的背景场，得到异常场，最后对异常场进行二阶差分处理，便得到反映电性分层的残差曲线。对每一条测线的每个测点进行类似处理．形成剖面图．即可得到残差电性界面成像剖面。
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