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通过循环伏安法和恒电位阶跃暂态法,研究硫酸铜-硫酸溶液中铜在石墨基体上的电沉积行为,并利用扫描电子显微镜观察石墨基体表面金属铜沉积颗粒的形态和分布。结果表明：在较正的电位区间内,铜的沉积遵从连续成核机理;而在较负的电位区间内,铜的沉积遵从瞬时成核机理。
石墨基体上电沉积铜成核机理的研究
【摘 要】
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通过循环伏安法和恒电位阶跃暂态法,研究硫酸铜-硫酸溶液中铜在石墨基体上的电沉积行为,并利用扫描电子显微镜观察石墨基体表面金属铜沉积颗粒的形态和分布。结果表明：在较正
【机 构】
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天津大学化工学院,中国电子科技集团公司第18研究所
【出 处】
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电镀与精饰
【发表日期】
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2010年10期
【基金项目】
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国家973计划项目(No.613110602004)
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