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利用等离子体增强化学气相沉积法对低硅钢进行ＳｉＣｌ４涂层处理，然后进行高温扩散，制得高硅钢，使其磁性能大为改善，从而铁损Ｐ１５／５０降低约４５．１％，磁感应强度提高４．５％左右。
PCVD法制取高硅钢的研究
【摘 要】
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利用等离子体增强化学气相沉积法对低硅钢进行ＳｉＣｌ４涂层处理，然后进行高温扩散，制得高硅钢，使其磁性能大为改善，从而铁损Ｐ１５／５０降低约４５．１％，磁感应强度提高４．５％左右。
【机 构】
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金属材料教研室
【出 处】
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武汉冶金科技大学学报
【发表日期】
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1996年4期
【基金项目】
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湖北省科学基金
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