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摘要采用磁控溅射法在不同基底温度的条件下制备NiOx薄膜。对制备的薄膜采用XRD、SEM、Raman、XPS、可见光分光光度计及循环伏安曲线等测试手段进行对比分析。结果表明，在低温条件下制备的NiOx薄膜比常温沉积的薄膜会提供更多的Ni^2＋离子参与变色反应，同时薄膜中疏松的孔洞有利于离子进出。SEM图中可以看出液氮流量越大，温度越低则晶粒越小，会造成沉积组织明显疏松，这些孔隙非常有利于H^＋的拉入抽出。通过Raman测试发现，低温沉积的薄膜可以提供更多的Ni^2＋空位。XPS测试发现NiOx薄膜在KOH