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期刊论文
应用于石墨烯制备的CVD反应炉研制
应用于石墨烯制备的CVD反应炉研制
来源 :真空 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liongliong481
【摘 要】
:
本文介绍了应用于石墨烯制备的CVD反应炉的工艺原理及技术特点,并以一台已经研制成功的CVD反应炉为例,详细阐述了该设备的相关设计思路及特点.该设备采用先进的控温技术控制
【作 者】
:
高超
张吉峰
唐榕
【机 构】
:
北京真空电子科技有限公司,北京,100016
【出 处】
:
真空
【发表日期】
:
2020年3期
【关键词】
:
石墨烯
CVD
温度控制
反应室压力调节
闭环控制
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本文介绍了应用于石墨烯制备的CVD反应炉的工艺原理及技术特点,并以一台已经研制成功的CVD反应炉为例,详细阐述了该设备的相关设计思路及特点.该设备采用先进的控温技术控制加热器的快速升温,通过闭环控制实现了工艺过程中腔室压力的自动控制,具有控制精度高、响应快、一致性好等优点.
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