【摘 要】
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以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N2气流量对复合膜
【机 构】
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沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金（51171118）, 辽宁省高等学校优秀人才支持计划（LR2013054）
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以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密。TiN为fcc结构,其择优取向为（111）面。随N2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先提高后下降。本实验条件下,在N2气流量为16mL/min时所沉积的复合膜
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