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报道了采用甲壳素修饰碳糊电极测定痕量铜的方法。通过开路富集,Cu62+和甲壳素形成络合物富集于电极表面,然后经介质交换,电位还原再进行阳熔出伏安测定。在浓度为3.0×10^-9-9.0×120^-7mol/L范围内,峰电流与痕量铜浓度呈线性关系,检测限为1.0×10^-9mol/L。同时,对电极反应的机理进行了讨论。