溅射偏压对CrN薄膜结构以及抗指纹性能的影响

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试验采用磁控溅射镀膜技术制备CrN薄膜,研究了不同溅射偏压下制成的薄膜的粗糙度、表面形貌、断面特征、人工汗液接触角的变化规律以及薄膜的抗指纹性能.结果表明:随着溅射偏压(0 V~120 V)的增加,其粗糙度增加、表面颗粒凸起数量增加、薄膜厚度逐渐减小.当溅射偏压大于60 V时,薄膜则因偏压的增大导致其表面能增加,薄膜的晶粒尺寸变大、生长取向从择优取向转变为多方向取向.当溅射偏压大于60 V时,薄膜与人工汗液的接触角明显降低,薄膜表面的残留指纹宽度显著增加,说明CrN薄膜在溅射偏压为60 V时抗指纹性能最优.
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