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基于单分子层材料的去除机理，应用微观接触力学和概率统计方法建立了化学机械抛光（CMP）及材料去除的数学物理模型．模型揭示了材料的去除率和磨粒的大小、浓度呈非线性关系，而且模型预测结果与已有的试验数据相吻合，为进一步研究磨粒对CMP材料去除的影响提供了新的研究视角．
基于单分子层去除机理的芯片化学机械抛光材料去除模型
【摘 要】
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基于单分子层材料的去除机理，应用微观接触力学和概率统计方法建立了化学机械抛光（CMP）及材料去除的数学物理模型．模型揭示了材料的去除率和磨粒的大小、浓度呈非线性关系，而且模
【机 构】
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江南大学机械工程学院
【出 处】
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江南大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2007年1期
【基金项目】
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江苏省自然科学基金项目(BK2004020);教育部回国人员启动基金项目([2004]527);清华大学摩擦学国家重点实验室开放基金(SKLT04-06);江南大学重大基金(207000-21054200);江南大学预研基金(207000-52210434);教育部重点项目(教外字[2006]233号)
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