ZnO/Si纳米孔柱阵列的真空蒸镀及其光致发光特性

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以硅纳米孔柱阵列(Si—NPA)为衬底,通过采用真空蒸镀技术沉积金属锌,再在纯氧气氛中进行氧化退火的方法,制备出具有阵列特征的ZnO/Si—NPA异质结构材料。研究发现,ZnO/Si—NPA的表面形貌、结构和光致发光特性强烈依赖于氧化退火温度。当氧化退火温度低于400℃时,样品的发光主要来自于Si—NPA衬底;当氧化退火温度高于700℃时,样品的发光主要来自于ZnO薄膜;经过600℃氧化退火的样品则同时包含有来自于Si—NPA和ZnO薄膜的发光。上述结果表明,通过控制ZnO/Si—NPA制备过程中的氧化退
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