SiC薄膜的阻氚性能研究

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在不锈钢基体表面用离子束混合技术沉积SiC薄膜,然后用能量为5keV的H^+对其辐照直至剂量达到1×10^18/cm^2,再用二次离子质谱分析(SIMS)分析H^+在SiC薄膜中深度分布和正离子谱,研究薄膜的阻氢性能和阻氢机理;最后采用渗透实验对涂覆在不锈钢基体表面的SiC材料的氚渗透系数进行测试,对其阻氚性能进行验证。结果表明,在不锈钢基材表面涂覆的SiC薄膜具有良好的阻氢性能,可将氚的渗透率降低4个数量级以上,SiC薄膜的阻氢是由于氢与薄膜中的硅、碳悬挂键反应形成诸如C-H、C-H2、C—H
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