【摘 要】
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介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属Ta涂层的一般原理及方法.利用TaCl5-H2-Ar反应体系,采用化学气相沉积法在不锈钢基体表面沉积了Ta涂层.通过X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(
【机 构】
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宁夏东方钽业股份有限公司国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心,宁夏石嘴山753000;西北稀有金属材料研究院金属特种材料国家重点实验室,宁夏石嘴山753000
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介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属Ta涂层的一般原理及方法.利用TaCl5-H2-Ar反应体系,采用化学气相沉积法在不锈钢基体表面沉积了Ta涂层.通过X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)手段,研究了CVD温度对Ta涂层的结构、沉积速率、显微组织的影响,分析了Ta涂层的显微组织结构和成分组成,对Ta涂层试样在强酸冲刷条件下进行了耐腐蚀试验,最后对Ta涂层试样的失效机理进行了分析.结果 表明:在1000～1200℃范围内,随着沉积温度的升高,Ta涂层晶粒结晶性能逐渐变好,沉积速率逐渐增大,当沉积温度大于1100℃,Ta涂层和基体之间会出现较明显的扩散层;Ta涂层主要由分布均匀的钽元素和少量不连续的氧元素组成;涂层的失效的主要原因是由于Ta涂层纵向生长的柱状晶不致密,使得晶界处的氧化物率先腐蚀,使得钽涂层逐渐失去对基体的保护作用.
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