【摘 要】
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研究了在高氯酸/乙醇抛光液体系下,不同抛光电压(5、10、15、20 V)和抛光时间(2、3、4、5 min)的抛光工艺对抛光效果的影响。并且对抛光过程中的电流密度变化及抛光表面的光
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研究了在高氯酸/乙醇抛光液体系下,不同抛光电压(5、10、15、20 V)和抛光时间(2、3、4、5 min)的抛光工艺对抛光效果的影响。并且对抛光过程中的电流密度变化及抛光表面的光亮情况进行研究。结果表明,该体系的最佳抛光工艺:抛光电压15 V、抛光时间4 min(分两次抛光,每次时间为2 min)。
The effects of different polishing voltage (5, 10, 15, 20 V) and polishing time (2, 3, 4, 5 min) on the polishing effect were studied in perchloric acid / ethanol polishing solution system. The changes of the current density in the polishing process and the brightness of the polished surface were also studied. The results show that the optimal polishing process of this system is polishing voltage of 15 V and polishing time of 4 min (twice polishing, 2 min each time).
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