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采用简单的电热板在空气气氛中、430℃加热氧化Fe片以及沉积在硅基片上的Fe膜，在Fe基体表面分别制备出了一维α-Fe2O3纳米线和纳米带，并研究了不同Fe基体热氧化制备的纳米结构的场发射特性。结果表明：Fe片和Fe膜热氧化获得的α-Fe2O3纳米结构的开启电场分别为14．5V／μm和13．3V／μm；α-Fe2O3纳米线和纳米带的增强因子卢分别为1529和427，场发射增强因子卢的显著差别是由于纳米线和纳米带发射体尖端的形貌、长度直径比值以及样品表面纳米结构阵列的致密度不同造成的。