在30GHz下增益1dB输出0.4W的功率GaAsFET

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日本三菱电机公司研制了并列多个栅条的倒装型大功率GaAsFET。试制的FET的结构与过去的微波GaAsFET相同,但为了适用于高频段,把单位栅条长度做成100μm,为以前的一半。由于在30GHz下片子横向相位的影响,FET片子尺寸受到限制,因此总栅宽是按每单元栅宽为1200μm构成的。采用与过去相同的深凹槽剥离法预计可提高耐压和降低源阻抗。所用GaAs外延有源层的 Japan's Mitsubishi Electric Corporation developed parallel to the number of bars of flip-chip high-power GaAsFET. The fabricated FET has the same structure as the conventional microwave GaAs FETs, but for a high frequency band, the length of the unit gate is set to 100 μm, which is half of that of the conventional microwave GaAs FET. Because of the limited FET chip size due to the lateral phase at 30 GHz, the total gate width is based on a gate width of 1200 μm per cell. Using the same deep groove stripping method as in the past is expected to increase the breakdown voltage and reduce the source impedance. GaAs epitaxial active layer used
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