霍霍巴组培快繁技术体系研究——I.基本培养基与培养条件的优化

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以霍霍巴为材料,研究了外植体的消毒、基本培养基、取材部位和培养条件等因素对组培苗生长的影响.结果表明:采用0.1% HgCl2与2% NaClO 1∶1混合的消毒合剂处理外植体8 min,灭菌成功率99%;改良MS培养基适合霍霍巴的分化培养;最适外植体为双腋芽茎段;培养条件:温度25~28 ℃,光照强度3000 lx,光照时间12~14 h/d,pH 5.5~6.0.
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