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在北京HI-13串列加速器上使用强流溅射源引出某些离子时,总是含有不必要的束流杂质。经详细分析后确定束流杂质主要是由离子源内部一个绝缘套筒造成的。本文对离子源内部结构进行了改进：在靶阴极与阳极之间的绝缘套筒上加上内外金属屏蔽帽,从而降低了束流杂质,提高了束流的纯度和强度。
强流溅射源束流杂质的分析和消除
【摘 要】
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在北京HI-13串列加速器上使用强流溅射源引出某些离子时,总是含有不必要的束流杂质。经详细分析后确定束流杂质主要是由离子源内部一个绝缘套筒造成的。本文对离子源内部结构
【机 构】
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中国原子能科学研究院核物理研究所
【出 处】
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原子能科学技术
【发表日期】
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2017年4期
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