边缘处理对硬掩膜很重要

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在今天的fab里,因为先进光刻技术中使用的光刻胶越来越薄,以及保持刻蚀选择性的需要,硬掩膜越来越司空见惯。Novellus Systems公司设计了一种专用于为前段应用提供有机物化学气相淀积硬掩膜的新工艺。这种系统与众不同之处在于增加了边缘球状物去除(EBR)工艺以减少微粒缺陷、提高芯片边缘的成品率。Novellus电介质事业群产品管理高级总监Julian Hsieh说:“这是我们在客户演示中见到的成品率提高的关键原因。”Novellus在今年三月推向市场的Vector Express等离子体增强化学汽相
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