论文部分内容阅读
通过直流电沉积纳米晶铜实验，研究电解液pH值对电沉积速率和沉积层微观结构的影响。结果表明，电沉积速率随着电解液pH值的升高而下降。pH值为8．0时，沉积铜层具有明显的（111）方向织构，晶粒尺寸大于100nm。随着．pH值的升高，沉积铜层（200）晶面的择优取向程度不断上升．晶粒尺寸逐渐减小。pH值为9．0时，铜晶粒平均尺寸为44．2nm。实验发现．电解液pH值的最佳范围为8．8～9．0。