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来源 :材料科学与工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:swordhero
【摘 要】
:
碳化硅作为具有良好性能的第三代半导体材料,在MEMS、高能半导体器件等领域具有很大发展潜力.但该类材料硬度高、脆性大,加工困难,通常采用化学机械抛光(CMP)实现其基片表面的
【作 者】
:
翟文杰
杨德重
【机 构】
:
哈尔滨工业大学机电工程学院
【出 处】
:
材料科学与工艺
【发表日期】
:
2018年3期
【关键词】
:
第三代半导体材料
化学机械抛光
图片
封面
表面化学
半导体器件
MEMS
材料硬度
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碳化硅作为具有良好性能的第三代半导体材料,在MEMS、高能半导体器件等领域具有很大发展潜力.但该类材料硬度高、脆性大,加工困难,通常采用化学机械抛光(CMP)实现其基片表面的全局平坦化加工.CMP依靠嵌入抛光垫的磨粒对基片表面化学改性层进行机械去除,切削深度为纳米级.
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