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本文采用射频磁控溅射法在玻璃衬底表面制备了Al2O3掺杂的ZnO薄膜(AZO膜),使用四探针薄膜方阻仪、XRD和分光光度计对AZO薄膜光电性能进行了表征分析。研究了制备参数和退火条件对AZO薄膜光电性能的影响,获得了制备高透过率(90%)和低方阻(15 Ω/□) AZO薄膜最佳工艺参数。
AZO透明导电膜的光电性能研究
【摘 要】
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本文采用射频磁控溅射法在玻璃衬底表面制备了Al2O3掺杂的ZnO薄膜(AZO膜),使用四探针薄膜方阻仪、XRD和分光光度计对AZO薄膜光电性能进行了表征分析。研究了制备参数和退火条
【机 构】
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汕头大学,汕头超声显示器有限公司,无锡舒玛天科新能源技术有限公司
【出 处】
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材料科学
【发表日期】
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2018年4期
【基金项目】
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广东省科技计划项目(编号2017A010103021).
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